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『繁體書』薄膜

書城自編碼: 2291858
分類:繁體書 →台灣書
作者: 麻蒔立男 譯者: 張華英
國際書號(ISBN): 9789866185892
出版社: 瑞昇
出版日期: 2012-03-23
版次: 初版
頁數/字數: 192頁
書度/開本: 15x21cm

售價:HK$ 107.1

 

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內容簡介:

接近原子的超細微.超高密度世界


  液晶螢幕、數位相機、微電腦……運用電漿及離子所研發的各種新科技產品,薄膜幫助我們追求更便利的未來!


  一聽到薄膜,立刻就能反應的人應該屈指可數吧。薄膜雖然字如其意,是指很薄的膜,但也表示了以多層分子或原子大小厚度的膜相互堆疊,製作成電子回路裝置等的先進技術。無論是現在還是未來,都絕對是各國先進企業互相競爭的領域。


  本書將從各種面相,介紹對科技發展擁有重要貢獻的薄膜技術,並從中挑出需特別注意的重點,是簡單易懂的圖解入門書籍。在真空中利用電漿蒸鍍製作新素材的薄膜技術,究竟能帶領我們看到什麼樣的世界呢?讓我們立刻開始介紹吧!


本書特色


  搭配彩色插圖進行解說,讓理解更容易,學習更有趣!


  從製作方法到未來的發展,全方位介紹薄膜。


  日本工學博士執筆,深入淺出解說專業知識。


作者簡介


麻蒔立男 Tatsuo Asamaki


  1934 年生於日本愛知縣。1957年畢業於靜岡大學工學部電子工學科,隨即進入日本電氣有限公司任職,從1967年起轉職到日電□□□□ ( 即現在的C a n o n A N E L V A Corporation)。1990 年至2010 年擔任東京理科大學教授及客座教授。日本真空協會個人理事。工學博士。


  著有『真空的世界(第2 版)』、『薄膜製成的基礎(第4版)』、『超微細加工基礎(第2版)』、『簡易電氣磁氣學』、『徹底瞭解薄膜』、『徹底瞭解超微細加工』、『徹底瞭解薄膜』(日刊工業報社)等書。

目錄
第1章優質的生活來自美與細微之處11
001創造極致美的顏料們 用美的感覺塗繪微粉末12
002用相片製造大量的相同畫作 彩色相片及數位相機14
003機器人也透過使用薄膜技術而進化 用薄膜零組件和電腦達到精密控制16
004製作五感 視.聽.嗅.味.觸覺18
005製造智慧型機器人20
006生活週遭的電氣製品也都有使用薄膜22
007並非靠分解,而是採用壓延手法。究竟可以到多薄呢?24
008製作薄膜中的超微細圖形26
COLUMN何謂「真,空」28
第2章真空是薄膜製程的重要環境29
009真空,就是氣壓比大氣氣壓低的空間狀態30
010真空所用的單位:壓力單位帕斯卡﹝Pa﹞32
011真空幫浦有抽氣、吸附2大類34
012測量、分析真空 真空計36
013真空裝置的製作方式38
COLUMN瞬間質量移動裝置的研究40
第3章來製作薄膜吧41
014氣體的薄膜材料製成固體的薄膜42
015Source(氣化源)可略分為4大種類44
016單層生成及核成長 薄膜的生成○1
017薄膜的內部殘留多數缺陷 薄膜的生成○2
018僅有薄膜是無法使用的 與基板的結合相當重要50
019為了製作單結晶膜52
COLUMN先天環境與後天教養54
第4章薄膜呈現出獨特的性質55
020薄膜的密度變小,厚度也會隨著時間變小56
021電阻會變化,且值比塊材大58
022溫度變化會影響特性 利用老化處理等方式可以克服問題60
COLUMN薄膜與基板結合62
第5章使基板和薄膜緊密結合的技術63
023基板的平坦性是基本 現在仍持續進步中64
024運用前置處理使基板呈現裸狀66
025前置處理的最後修飾是乾燥 若怠慢乾燥步驟,所有努力都會化為烏有68
026增強附著強度的薄膜製造法70
027變更Source,可加強附著強度72
028裝載膜片時什麼都能進行時 薄膜和基板的屬性相合最重要74
029著地點是個險峻的岩石場76
030得到期望薄膜的組成比例78
031製作大面積回路用的非結晶薄膜進行多結晶化80
032電致遷移斷線以及其解決方法82
COLUMN太陽之子 電漿84
第6章製作薄膜時,電漿相當重要85
033認識電漿及利用電漿魔力86
034為製造電漿而引起放電88
035以低壓力(優異的真空狀態)為目標 引起磁控管放電90
036製作薄膜用電漿的5種方法92
037薄膜的大敵是雜質94
COLUMN望遠鏡、照相機都更加明亮了96
第7章自古以來使用的蒸鍍法97
038蒸鍍法的Source98
039統一膜厚的工夫100
040活用離子的離子鍍法102
041離子活用的發展104
042脈衝雷射剝蝕蒸鍍法 可消除蒸鍍材和薄膜間的組成變化106
043製作透明通電的薄膜 透明導電膜的蒸鍍108
COLUMN物品用法的運用110
第8章專用在大面積Source及量產時的 濺鍍法111
044依離子能量及薄膜材料決定濺鍍率112
045被濺鍍的原子會遵循餘弦定律(Cosine Law),速度非常快114
046濺鍍的主要方式116
047以低電壓.定壓(高真空)為目標的磁控管濺鍍118
048支撐半導體IC高積聚化的鋁合金濺鍍120
049在反應性濺鍍中製作高性能電阻膜122
050氧化物的高溫超電導膜可用濺鍍法實現124
051透明導電膜(氧化物)ITO可透過低電壓化實現126
052從在平面上搭載薄膜的時代邁入在超微細孔中裝載薄膜的時代128
053利用離子的力量導入到超微細孔中130
054朝高真空濺鍍及不含氬的時代邁進132
COLUMN從煙霧(氣體)製作薄膜(固體),宛如一場魔術134
第9章由氣體製作薄膜的氣相沉積法135
055在氣相中從氣體生成薄膜(固體)136
056將多種CVD方式實用化138
057對IC生產極重要的矽類型薄膜仰賴CVD製程140
058高精細電視用的矽薄膜142
059製作高誘電率薄膜及低誘電率薄膜144
060金屬及導電膜都可用氣相沉積法製作146
061運用表面性質改變法製作氧化、氮化薄膜148
COLUMN從水(液體)當中取出薄膜(固體)150
第10章在液體中製作薄膜的電鍍151
062進化的電鍍技術152
063液體中的電鍍膜也和真空中的薄膜同樣會進行核成長154
064花費許多力氣的精密電鍍在電氣領域相當活躍156
COLUMN用世界最小的刀具切削加工158
第11章為電路和電晶體而加工薄膜的蝕刻法159
065正確的形狀及在正確的位置運用蝕刻法製作圖樣160
066氣體離子的蝕刻法162
067電漿製程是關鍵164
068反應氣體是重要的“軟體”166
069決定蝕刻條件168
070運用極細離子電子束修理故障170
071運用CMP達完全平坦化172
072不使用CMP的平坦化技術174
COLUMN描繪一個偉大燦爛的遠景,作為終身追求的目標176
第12章利用薄膜往前邁進 未來使用的可能性無窮無盡177
073操縱原子,製作未來的回路178
074讓世界的通訊網絡蓬勃發展的薄膜180
075利用微電腦技術拯救人命182
076計算生物學(Biocomputing)184

 

 

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