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『簡體書』绝缘体上硅(SOI)技术——制造及应用

書城自編碼: 3272835
分類:簡體書→大陸圖書→工業技術化學工業
作者: [法] Oleg,Kononchuk,ich-Yen,Ngu
國際書號(ISBN): 9787118116366
出版社: 国防工业出版社
出版日期: 2018-12-01


書度/開本: 16开

售價:HK$ 181.8

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內容簡介:
《绝缘体上硅(SOI)技术:制造及应用》的目的是对SOI CMOS新技术的进展进行全面介绍。全书分为两部分:*部分介绍SOI晶圆片的制造工艺、表征及SOI器件物理;第二部分介绍相关的各种应用。全书既涉及部分耗尽SOI这样已成熟的技术,也包括全耗尽平面SOI技术、FinFET、射频、光电子、MEMS以及超低功耗应用这样一些新发展的技术。晶体管级和电路级解决方案也均有涉及。我们将这《绝缘体上硅(SOI)技术:制造及应用》的解决方案限定在32~14nm技术节点的范围,并将应用限定在技术成熟到足以实现批量生产的范围。
內容試閱
绝缘体上硅(SOI)互补金属氧化物半导体(CMOS)技术,从利基市场开始发展,现在已经达到了成熟阶段。在20世纪80年代初,开发这一技术主要是针对辐射加固(军用)及功率应用。SOI的广泛采用,是20世纪90年代末由集成器件制造商(IDM)在高性能的计算机应用开始的。目前,SOI技术正在向基于常规的体硅CMOS的射频、模拟、通用、超低功耗计算机、光电子、存储器以及MEMS(微机电系统)等各种电路的市场进军。例如,2012年,已经有超过60%的移动应用装置以及超过80%的游戏机,是采用SOI芯片制造的。在最近几年,其已经发展成为一个完整的CMOS生态系统。这个生态系统基于多年来晶圆片供应链中三个主要的SOI晶圆片公司(Soitec,SEH,SunEdison),它们生产的SOI晶圆片总产量达到每年250万片(在1~2年内可能还会翻一番)。这个生态系统还包括SOI的工艺代工线(ARM、UMC、GlobaJ Foundry、ST Microelec-tronics),以及知识产权(IP)核心库提供单位(ARM、IBM)和电子设计自动化(EDA)工具公司(Synopsys、Cadence、Mentor Graphics),ITRS(国际半导体技术蓝图)增加了在IT中采用的SOI技术,并且提供不同应用的SOI发展蓝图。大多数CMOS制造商在他们的SOI解决方案中,都有未来的产品研发计划。
SOI的优势是什么呢?可以作如下概括:
同相应的体硅技术相比,无论是速度还是功耗,性能均有提高;
SOI具有更好的缩比性,使芯片面积更小;
SOI能简化加工工艺;
SOI在晶圆片上容易将不同材料集成在一起。
2008年,全球半导体联盟( GSA)和SOI产业联盟,进行了一项行业对SOI技术看法的在线调研(图1),认为SOI晶圆片的成本以及SOI设计知识的不完善,是制约SOI发展的主要原因。目前这些问题正在解决。过去,SOI晶圆片的价格曾达体硅晶圆片的五倍,但由于量产目前价格已显著降低了。另外,SOI晶圆片的价格只是加工及封装器件的一小部分。SOI制造工艺简单的优点,抵消了较高衬底价格的缺点。
本书的目的是对SOI CMOS最新技术的进展进行全面介绍。全书分为两部分:第一部分介绍SOI晶圆片的制造工艺、表征及SOI器件物理;第二部分介绍相关的各种应用。全书既涉及部分耗尽SOI这样已成熟的技术,也包括全耗尽平面SOI技术、FinFET、射频、光电子、MEMS以及超低功耗应用这样一些新发展的技术。晶体管级和电路级解决方案也均有涉及。我们将这本书的解决方案限定在32~14nm技术节点的范围,并将应用限定在技术成熟到足以实现批量生产的范围。
我们要感谢Woodhead出版社的Francis Dodds、Laura Pugh以及Steven Mat-thews,感谢他们为本书的成功出版所做的工作。

 

 

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